此款CVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開(kāi)啟式真空管式爐(可選配滑動(dòng)/雙管)
2.手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng)系統(tǒng)
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空控制系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

本CVD系統(tǒng)應(yīng)用覆蓋面廣，可滿足各類新型材料、薄膜涂層、粉體、陶瓷制品的制備與燒結(jié)工藝需求，核心應(yīng)用場(chǎng)景如下：
1. 新型納米及二維材料制備
可實(shí)現(xiàn)石墨烯生長(zhǎng)、二維材料批量制備、TMDs過(guò)渡金屬硫族化合物材料制備、二硫化鉬材料制備、碳納米管生長(zhǎng)、ZnO納米結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)等前沿納米材料加工，是新材料科研與產(chǎn)業(yè)化的核心設(shè)備。
2. 各類功能薄膜材料制備
適配多種硬質(zhì)、功能型薄膜生長(zhǎng)工藝，涵蓋氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金剛石薄膜、功能性金屬涂層等，可廣泛應(yīng)用于材料表面改性、防護(hù)涂層、光電薄膜、半導(dǎo)體薄膜等領(lǐng)域。
3. 特種晶體與陶瓷材料制備
支持新型晶體材料生長(zhǎng)、高性能陶瓷纖維制備，同時(shí)可完成陶瓷電容氣氛燒結(jié)、粉體材料氣氛燒結(jié)、非晶態(tài)合金生長(zhǎng)等特殊工藝，適配電子陶瓷、特種合金、功能粉體材料的生產(chǎn)加工需求。